主要設備  

★  黃光微影設備

      ☆   高解析對位曝光

             •最小解析度 0.7 um

             •對位精度 1 um

      ☆   光罩對位曝光機

             •最小解析度 2 um

             •對位精度 2 um

      ☆   乾膜壓膜機

            

            

 

★ 電鑄系統

      ☆   搖擺式電鍍機

             •水平或垂直式搖擺陰極、鍍液循環過濾

             •電鍍金屬:Ni、NiCo、Cu、Au、Pd

             •最小電鍍填孔孔徑:10 um

            

★ 蝕刻技術

      ☆   PCB板電槳表面處理設備

             •反應功率:600 W

             •反應氣體:N2、O2、SF6、CF4

★ 量測系統

      ☆   接觸式量測儀

             •探針接觸式量測

             •垂直解析度 10 nm

             •量測高度範圍:± 150 um

             •最大量測距離:10 cm

             •翹曲度及粗糙度量測

 

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